帳號：
密碼：
相關物件共 1 筆
(您查閱第 頁資料, 超過您的權限, 請免費註冊成為會員後, 才能使用!)
應材進軍300mm濕式清洗市場 (2002.06.21)
應用材料公司宣佈推出Oasis Clean 300mm單晶圓清洗設備，為半導體業晶圓清洗製程帶來更先進的技術能力與高生產力。Oasis Clean系統可取代傳統批次式（batch）濕式系統，為將近50道電晶體製造所需的關鍵清洗步驟提供全新的技術，將可協助客戶快速縮短生產週期與增強微粒移除能力，以支援130奈米以下世代的晶片製造


  十大熱門新聞
1 Littelfuse單芯超級電容器保護積體電路用於增強型備用電源解決方案
2 Western Digital全新極速8TB桌上型SSD 釋放數位創作無限可能
3 LitePoint攜手三星電子進展 FiRa 2.0新版安全測距測試用例
4 愛德萬測試發表V93000 EXA Scale SoC測試系統超高電流電源供應板卡
5 Nordic Semiconductor全面推出nRF Cloud設備管理服務
6 意法半導體新款高壓側開關整合智慧多功能 提供系統設計高彈性
7 安提國際MegaEdge系列新品為邊緣AI推論與電腦視覺應用賦能
8 長陽生醫推出Miicraft光固化3D列印機 協助牙科提升醫療能量
9 群聯電子推出全新企業級SSD品牌PASCARI及高階X200 SSD
10 中美萬泰新一代無風扇熱插拔電池醫療級觸控電腦

AD
刊登廣告 ｜ 新聞信箱 ｜ 讀者信箱 ｜ 著作權聲明 ｜ 隱私權聲明 ｜ 本站介紹
︱ Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29號11樓 / 電話 (02)2585-5526 / E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw