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討論新聞主題﹕EV Group步進重複奈米壓印微影系統突破生產微縮化

新聞 提要
相較於昔日步進重複奈米壓印微影（NIL）的進一步開發與生產微縮化的需求，常被受限於較大面積上精準母模的可用性。晶圓接合暨微影技術設備商EV Group（EVG）推出次世代步進重複NIL系統EVG770 NT。EVG770 NT可以為擴增實境（AR）波導管、晶圓級光學技術（WLO）及先進實驗室晶片元件量產使用的大面積母模加工，促成複雜的微型與奈米圖案結構的精準複製來進行大面積母模加工。 借助EVG在NIL與步進重複母模累積數十年的經驗，EVG770 NT的設計旨在成為一套讓效能、生產力與製程控制性極大化的完全生產導向系統，並提供先進的疊層精準度與解析度，尺寸最高可以放大至300mm晶圓及第二代面板尺寸

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