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KLA-Tencor新版黄光电脑模拟软体进一步克服EUV微影 (2008.10.14) KLA-Tencor公司推出最新版的黄光电脑模拟软体 PROLITHTM 12。此新版本将协助晶片制造商及研发机构的研究人员能以具成本效益的方式,探索与超紫外光(EUV)微影相关的各种光罩设计、黄光制程材料及制程的可行性 |
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KLA-Tencor新版黄光计算机仿真软件进一步克服EUV微影 (2008.10.14) KLA-Tencor公司推出最新版的黄光计算机仿真软件 PROLITHTM 12。此新版本将协助芯片制造商及研发机构的研究人员能以具成本效益的方式,探索与超紫外光(EUV)微影相关的各种光罩设计、黄光制程材料及制程的可行性 |
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KLA-Tencor推出可计算黄光双次成像的仿真软件 (2008.07.14) KLA-Tencor公司推出黄光计算机仿真软件PROLITH 11。能提供用户评估目前双次成像技术的工具,协助用户在设计、材料与制程开发方面符合成本效益,探索光蚀挑战的替代解决方案 |
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KLA-Tencor推出可计算黄光双次成像的模拟软体 (2008.07.14) KLA-Tencor公司推出黄光电脑模拟软体PROLITH 11。能提供使用者评估目前双次成像技术的工具,协助使用者在设计、材料与制程开发方面符合成本效益,探索光蚀挑战的替代解决方案 |