CTIMES - 光罩

英特格授權RSP 150光罩盒技術予中勤實業以改善缺陷率 (2019.06.18)
英特格(Entegris Inc.)今天宣佈，已將其RSP150專利技術授權給台灣中勤實業，用以製造和銷售光罩盒。英特格擁有全球最先進的光罩盒技術，並持續大力投資於研發，以確保客戶能夠妥善因應工業4.0帶來的製造挑戰

SEMI：2017年全球半導體光罩銷售金額為37億美元 (2018.04.10)
SEMI (國際半導體產業協會) 公布最新半導體光罩市場總結報告（Photomask Characterization Summary），2017年全球光罩市場遽增13%，以37.5億美元市值創下歷史新高，預計於2019年市值將超越40億美元大關

Toppan Photomasks增資上海廠尖端光罩設備 (2018.01.24)
Toppan Photomasks, Inc.（TPI）宣布加碼投資Toppan Photomasks Company Limited, Shanghai（TPCS）上海廠，針對先進光罩擴充全新的尖端量產設備。 TPCS為Toppan Photomasks, Inc.旗下子公司，專為半導體客戶生產光罩

2016年全球半導體光罩銷售金額達33億美元 (2017.04.11)
SEMI（國際半導體產業協會）公布最新光罩市場總結報告（Photomask Characterization Summary），2016年全球光罩市場規模達33.2億美元，預計2018年市場規模將成長至35.7億美元，繼2015年成長1%後，光罩市場在2016年成長2%

KLA-Tencor推出新一代光罩缺陷檢測平臺 (2009.09.16)
KLA-Tencor公司宣佈推出了Teron 600系列光罩缺陷檢測系統。全新的 Teron 600平臺中加入了可編程掃描機曝光功能，並且靈敏度和模擬光刻計算功能上與當前行業標準平台TeraScanTMXR相比，有明顯改進，為2Xnm邏輯（3Xnm HP記憶體）節點下的光罩設計帶來了一次重大轉型

HOYA晶片設計導入思源LAKER SYSTEM (2009.09.15)
思源科技宣佈日本HOYA Corporation 的光罩部門於日本和中國導入 Laker客製化佈局系統。Laker 系統協助 HOYA 設計團隊，從設計規格乃至於先進光罩生產，以其建置流程支援全球晶片廠的各種需求

KLA-Tencor新版黃光電腦模擬軟體進一步克服EUV微影 (2008.10.14)
KLA-Tencor公司推出最新版的黃光電腦模擬軟體 PROLITHTM 12。此新版本將協助晶片製造商及研發機構的研究人員能以具成本效益的方式，探索與超紫外光（EUV）微影相關的各種光罩設計、黃光製程材料及製程的可行性

KLA-Tencor新光罩檢測技術可執行多缺陷檢測 (2008.05.02)
KLA-Tencor公司推出最新光罩檢測技術，名為「晶圓平面光罩檢測（Wafer Plane Inspection，WPI）」。WPI不但能勝任對良率至關重要的32奈米光罩缺陷檢測，其運行速度也比先前的檢測系統的快40%，並且可能可以縮減檢測在整體光罩生產中所佔的時間

Victrex製造之CMP環獲家登精密採用 (2008.03.20)
英國威格斯公司(Victrex plc)宣佈，光罩全方位解決方案供應商家登精密工業 (Gudeng Precision)已推出以VICTREX PEEK聚合物所製造的8”與12”化學機械研磨環(Chemical Mechanical Planarization Ring; 簡稱CMP環)

KLA-Tencor推出全新晶圓廠光罩檢測系統 (2008.03.18)
KLA-Tencor推出全新的光罩檢測系統TeraFab系列，協助晶圓廠以靈活的配置方式檢測入廠的光罩是否存在污染物，免除產能的降低與生產風險的增加。TeraFab系列提供三種基礎配置方式，滿足邏輯晶圓廠、記憶體晶圓廠及不同世代光罩各式各樣的檢測要求

韓商弘榮光罩中科廠啟用就近供應客戶 (2006.03.22)
中科、竹科的光電聚落效應發酵，已吸引全球前三大光罩廠齊聚台灣設廠。全球第三大光罩廠的韓國弘榮光罩（PKL ），斥資4600萬美元，轉投資台灣弘榮光罩旗下中科廠已落成啟用

新材料誕　快速提升光罩製作速度 (2003.02.25)
根據外電消息，美國華盛頓大學生物工程學系助理教授Albert Folch發現製造光罩之新材料，效果比現有光罩更佳，成本更為低廉。Folch所製作光罩，其理論基礎架構在微流體（Microfluidic）上，操控微流體主要成份為可食用的色素

微電子研發成果發表會　奈米實驗室發表多項成果 (2002.12.11)
昨日交通大學與國家奈米元件實驗室共同舉辦「微電子科技研發成果發表會」，希望藉此使研究成果經由適當的推廣，能促進產學業界共同創造未來互利互惠的契機。奈米實驗室表示，舉辦該活動的主要目的，是希望透過對外公開發表研究結果，加強與業界的合作機會

台灣光罩擬赴大陸設辦事處 (2001.10.25)
台灣光罩資材部經理兼發言人劉典瑞表示，台灣光罩為配合客戶在中國大陸的佈局，及看好大陸市場未來的潛力，最遲明年會在大陸設辦事處。台灣光罩指出，光罩產業與半導體產業的盛衰有些不同，ＩＣ設計公司設計出的每項產品皆須經過光罩這道製程，但並不是每項產品的推出皆可賣錢，因此光罩業受半導體景氣影響較小

台灣光罩合併效益發酵 (2001.06.15)
台灣光罩在合併新台科技效益發酵，以及高階光罩接單比重提升挹注下，公司預估第二季營收與獲利，均將較第一季提升。第二季毛利率不但可較第一季的25％提升三至四個百分點，並可望在第四季進一步提升至財測目標31％

國內光罩價格微幅調漲 (2001.02.21)
去年國內的光罩價格在同業的幾度合併後，因殺價競爭不再，與國外廠商的價差已從1999年的50%縮小至30%，但與國外大廠的價格相較仍明顯偏低。今年初，IC設計業者加速開發新產品，對光罩的需求跟著提高，目前國內的光罩價格已於今年1月份展開全面性的微幅調漲，調幅約10%

聯電、DNP將為0.10微米光罩制定適當規格 (2000.12.19)
聯電今宣佈與大日本印刷株式會社(DNP)簽訂一項為期數年的協定，聯電將獲得DNP保障提供先進的光罩服務。此外，雙方將共同為0.10微米光罩制定適當之規格。聯電表示，根據該協議，DNP將集中提供0.15/0.13微米製程世代的高階光罩予聯電，並強調採用先進且高品質的光學微距校正 (Optical Proximity Correction, OPC)相位移光罩(Phased Shift Mask, PSM)

變型照明技術--Off-Axis Illumination(OAI) (2000.02.01)
參考資料：