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科磊推出原子力显微镜在线监视解决方案 (2004.06.29)
KLA-Tencor发表AF-LM 300，第一套针对沟槽深度以及平坦化制程表面检验所推出的在线监视解决方案，并以原子力显微镜(atomic force microscopy, AFM)为基础。
AF-LM 300这套系统采用KLA-Tencor经过实际生产测试的Archer 10 Overlay量测平台，提供优异的速度与精准度 |
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KLA-Tencor推出MetriX 100 (2003.10.06)
KLA-Tencor 6日推出推出MetriX 100，是一套针对产品晶圆上薄膜的成份与厚度提供独立的量测功能。在各种IC上，薄膜的成份和薄膜的厚度都会影响IC的功能与可靠度，MetriX 100具备量测这两种参数的能力，提供90奈米环境中生产在线式监测及开发65奈米以下的制程 |
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