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CTIMES / 曝光機
科技
典故
第一颗晶体管(Transistor)的由来

第二次世界大战末期,贝尔实验室开始一项研究计划,目标是研发出一种体积更小、功能更强大、更快速且可靠的装置来取代真空管。1947年12月23日,由贝尔实验室研发的晶体管取代了真空管,优点是体积更小、更可靠、且成本低廉,不仅孕育了今日遍及全球的电子半导体产业,同时也促成电讯计算机业、医学、太空探测等领域产生戏剧性的改变。
国研院仪科中心自研自制第一部ALE设备 (2019.09.19)
国家实验研究院台湾仪器科技研究中心(国研院仪科中心)将其在光机电及真空领域深耕逾40年的技术能量,与半导体设备产业进行串联,於9月18日至20日SEMICON Taiwan台湾国际半导体展,展示通过半导体制程实际验证之曝光机关键零组件,以及半导体产业高阶仪器设备自主研发成果与客制服务绩效
金属中心与国家仪器 产研结盟 (2010.03.04)
美商国家仪器(NI)台湾分公司与金属工业研究发展中心,于99年3月2日正式签约策略联盟。此策略合作是继去年11月行动电子触控面板智能型设备研发联盟成立后,双方将针对技术合作及人才交流进行合作,共同推动科技发展及知识应用以提升产业竞争优势
透过自动高阶补偿改善迭对控制 (2008.05.05)
随着关键尺寸逐年缩小,迭对预算变得越来越紧缩。先进刻蚀机的成本成为在非关键层上使用最先进的扫描式曝光机的阻碍,导致在不同的层使用不同的刻蚀机;这种做法通常被称为「混搭」
变型照明技术--Off-Axis Illumination(OAI) (2000.02.01)
参考数据:

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