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CTIMES / 明導國際
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确保网络稳定运作与发展的组织 - ICANN

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明导提供中芯Eldo模拟电路仿真器发展微米制程 (2006.01.09)
电子硬件与软件设计解决方案明导国际(Mentor Graphics)宣布,中国大陆主要晶圆代工厂商中芯国际已选择Mentor Eldo仿真工具做为其内部的模拟电路SPICE仿真器,中芯是根据Eldo已通过考验的仿真效能和收敛能力决定采用这套仿真工具
明导国际与QuickLogic签署OEM协议 (2006.01.02)
明导国际(Mentor Graphics)日前宣布与QuickLogic签署多年OEM协议。明导国际表示,这份新协议不但为QuickLogic客户带来强大的合成工具,还能帮助他们顺利转移到Mentor Graphics完整先进的FPGA合成技术与工具
明导国际台湾区U2U用户大会圆满成功 (2005.11.30)
EDA电子自动化厂商─明导国际(Mentor Graphics),在台湾地区所举办的第一次用户大会,已于11月24日圆满闭幕。此次盛会共吸引超过400名来自全台湾各地的客户及工程师前来参加
明导国际 2005 User2User用户大会 (2005.11.02)
全球领先的EDA电子自动化厂商─Mentor Graphics 明导国际,自1981年成立至今,不断致力于提供技术创新的软硬件设计解决方案,成功地协助电子产品制造商以更短时间、更低成本在市场上推出创新产品
明导国际Calibre套件 协助设计人员工作执行 (2005.08.31)
明导国际(Mentor Graphics)日前宣布已将Calibre实体验证与寄生参数摘取工具整合至Cadence设计输入环境。随着Calibre Extracted View加入Calibre Interactive,模拟以及模拟/混合讯号芯片设计人员现在就能执行后布局分析和仿真,以便建立精确的奈米芯片模型
年度EDA技术论坛 (2005.08.11)
Actel和Mentor Graphics合作强化客户FPGA经验 (2004.10.11)
Actel和Mentor Graphics宣布最新版本的Mentor Graphics Precision RTL合成工具可在使用Actel以Flash为基础通电即可工作ProASIC Plus系列现场可编程门阵列(FPGA)组件的设计中大幅提升性能。与先前的软件版本相比,使用Precision RTL合成工具的客户预计可提升时钟频率平均达18%
Simtek采用明导Calibre xRC寄生参数萃取工具 (2004.05.20)
Mentor Graphics于5月12日宣布,Simtek已采用Calibre xRC寄生参数萃取(parasitic extraction)工具作为它奈米设计的解决方案,并利用它来设计高效能的数据非挥发性内存。Calibre xRC为讯号及电源线路分析提供优化的阶层式寄生参数数据,又能和Nassda的后布局阶层式仿真工具HSIM整合,这是Simtek选择它的主要原因
以单一平台工具解决SoC设计验证难题 (2004.04.05)
(圖一)明导国际亚太地区总裁杨正义 在IC设计走向SoC(系统单晶片)的趋势之下,解决晶片设计流程中因类比(Analog)与混合讯号(Mixed Signal)比重日益提高所带来的功能验证(Verification)难题
明导国际亚太区总裁新上任 (2003.11.03)
新任亚太区总裁-杨正义先生于11月3日正式走马上任。杨正义先生前后分别毕业于国立交通大学及国立清华大学,拥有计算机硕士的学位,曾任研扬总经理,负责开创研扬海外版图,包括中国、韩国、日本及欧美等国
锁定技术专长领域 迎战IC设计奈米时代 (2003.07.05)
茅华认为,在IC制程走向深次微米与奈米时代,FPGA设计与IC后段的实体验证,将是EDA业者可发挥专长与竞争力的主要领域。
Mentor Graphics完整设计工具流程克服复杂FPGA设计挑战 (2003.05.29)
明导国际(Mentor Graphics) 于日前推出完整的FPGA设计流程,利用新技术扩大传统FPGA工具,以克服新出现的复杂FPGA设计挑战。新流程由三个部份组成,支援范围从高阶FPGA设计到电路板设计,并能针对FPGA、嵌入式系统以及内含FPGA的电路板,提供它们设计和验证所需的现有和未来技术
Mentor验证解决方案获Silicon Graphics采用 (2003.05.08)
明导国际(Mentor Graphics)近日指出,Silicon Graphics已决定与Mentor合作,成为Mentor最新高效能验证解决方案套件的第一位客户。除了Mentor的VStation模拟系统外,这套验证解决方案还提供良好的顾问咨询服务,包括模拟技术的丰富实务经验,能协助厂商降低模拟领域的进入障碍,提供低风险而低成本的解决方案以及容易采用的方法
智原选择Seamless做为软硬体协同验证工具 (2003.04.30)
明导国际(Mentor Graphics) 29日宣布,智原科技(Faraday Technology)已决定采用Seamless做为它的协同验证环境,用来验证矽智财元件库(IP library) 中的数位讯号处理器(DSP ) 和微控制器核心;此外,智原还将为客户提供它的第一套Seamless处理器支援套件(Processor ​​Support Package),用来模拟FD216 16位元数位讯号处理器核心
明导与智森、联电携手合作 (2003.04.10)
电子设计硬、软体供应商明导国​​际(Mentor Graphics)8日宣布,该公司将与智森科技、联华电子,三方合作针对联电0.18微米射频(RF)与混合讯号(Mixed Mode)制程技术领先推出一套完整的设计套件(Foundry Design Kit)
Mentor Graphics加强Calibre RET (2003.03.06)
明导国际(Mentor Graphics) 日前宣布,该公司已大幅加强CalibreO系列的解析度强化技术(RET)工具,确保Calibre解析度强化技术的建模精准度(modeling accuracy) 有效满足未来三个技术节点需求
ATI选择Mentor整合式验证工具 (2003.03.05)
明导国际(Mentor Graphics)日前指出,该公司已和ATI达成为期多年的协议,ATI将利用Mentor整合式套装工具来验证他们的高效能绘图卡和数位媒体晶片。 ATI将使用Mentor Graphics VStation 15M和30M模拟系统、CalibreR DRC、LVS和RV实体验证产品、以及FastScan、DFTAdvisor和BSDArchitect可测试设计工具
Mentor Graphics Calibre DRC 支援联电90奈米制程 (2003.03.05)
明导国际(Mentor Graphics) 于2月19日宣布,联电已开始提供能够完整支援90奈米制程的CalibreR DRC (设计规则检查) 规则档案,它们可充份发挥Calibre最先进功能;自从1998年开始,Calibre就是联电的实体验证标准
科雅(Goya)采用Mentor可测试设计工具 (2002.12.23)
Mentor Graphics于12月18日宣布,科雅科技(Goyatek Technology)已采用它的可测试设计(DFT)工具,做为科雅可测试设计服务流程标准。 Mentor的MBISTArchitect记忆体内建自我测试工具和BSD Architect边界扫描自动化工具都是技术领先产品,可协助科雅持续加强他们的可测试设计能力,这也是科雅选择它们的主要原因
Mentor Graphics与创惟技术合作 (2002.11.29)
Mentor Graphics于11月25日宣布与创惟科技(Genesys Logic)技术合作,为USB 2.0相容应用提供一套整合式实体层和控制器解决方案。这项合作将为Mentor客户带来一套通过实际成品验证(silicon proven)的解决方案,包括装置至主机的高速连线、装置与装置通讯的On-The-Go(OTG)支援和完全整合的实体层功能

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