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KLA-Tencor發表全光譜超寬頻檢測技術 (2005.08.24)
為協助客戶在65奈米及45奈米技術節點上克服其所遭遇的瑕疵和良率困境，KLA-Tencor推出新一代的 2800系列。這項明視野晶圓檢測平台產品，讓廠商可以在不影響良率的前提下，提升捕捉晶圓各層重大瑕疵的能力
KLA-Tencor與Carl Zeiss SMT攜手 (2003.11.18)
KLA-Tenco與Carl Zeiss SMT旗下的Carl Zeiss Microelectronic Systems公司日前宣佈策略結盟，將協助半導體產業針對90奈米及其以下的環境降低新一代光罩的成本並縮短產品上市時程。光罩製造商與晶片製造商將能迅速辨識、搜尋、以及解決各種缺陷問題，加快光罩研發的速度，並在整個生產過程中改進品管的效率
科磊推出新一代光罩檢測系統 (2003.07.21)
美商科磊(KLA-Tencor)近日發表新一代TeraScan深紫外線(deep ultraviolet)光罩檢測系統。此套系統是科磊針對次90奈米IC生產環境所設計的第一套光罩檢測工具，其能提供高靈敏度，不但可檢測出80奈米大小的典型瑕疵(凹入、突出以及斑點等瑕疵)及50奈米大小的線寬瑕疵


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