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讨论新闻主题﹕东芝密集合纵连横,力抗日立与英特尔

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日本东芝(TOSHIBA)近日密集地公布与其他知名半导体厂商、合作设计开发先进半导体制造技术的计划,有意与日立(Hitachi)、三星(Samsung)及英特尔(Intel)相互抗衡。 据报导,2月初东芝、NEC与新力(SONY)共同宣布将整合研发资源,计划继Intel之后联合开发0.045微米芯片制造工艺技术。NEC的发言人索菲向媒体表示,此阶段0.045微米芯片制造工艺技术的研究方向,将因应未来数字影音和行动设备的市场趋势,因为对其而言,提升高速传输和低耗电量的功能是极其关键的。 东芝和新力在二年前就曾宣布联合开发0.045微米工艺,去年2005年11月份东芝与NEC也达成了相似的协议,当时业界便传言三家公司即将连手开发芯片制造技术

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