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讨论新闻主题﹕Gigaphoton开发光谱宽度控制技术hMPL

新闻 提要
半导体光刻光源供应商Gigaphoton 株式会社宣布，公司已经开发出采用最新光学设计制造技术的光谱宽度控制技术“hMPL。hMPL已经在晶片厂家的实机测评中获得高度评价，今後或将用於先进的半导体制造工艺。 Gigaphoton董事长兼社长浦中克己表示：「今後随着IoT公司的发展，对半导体的需求也将增加，光谱宽度控制技术hMPL就是为了应对半导体需求增加而开发的。今後，我们将一如既往地采用最先进的技术来支援客户，为半导体产业做出贡献。」 在半导体光刻工程中，光谱宽度是最重要的叁数之一。Gigaphoton的hMPL能够降低LNM（窄频?域模组）的光学热负荷，将光谱宽度由原来的300fm缩小到200fm

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