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先進製程趨勢 IDM與晶圓代工廠結為夥伴 (2007.03.02)
恩智浦半導體(NXP)舉行高雄廠四十週年慶,恩智浦執行副總裁暨全球製造長Ajit Manocha表示,由於在65奈米以下的先進製程投資金額愈來愈大,整合元件製造廠(IDM)已無法獨自負擔,所以未來IDM廠與晶圓代工廠會愈走愈近
晶圓代工廠將成為IDM廠的重要合作夥伴 (2007.01.25)
繼恩智浦半導體(NXP)日前宣布退出Crolles2聯盟,轉向與台積電進行45奈米技術開發後,另二大整合元件製造廠(IDM)飛思卡爾及TI德州儀器也相繼發布新策略,飛思卡爾決定加入IBM的45奈米技術聯盟,TI則表示將停止技術獨立開發,轉向與晶圓代工廠合作開發45奈米以下技術
安捷倫93000及4073參數測試獲Crolles2聯盟青睞 (2006.02.27)
Agilent Technologies安捷倫科技宣佈,Crolles2聯盟已採購三套Agilent 93000 Pin Scale測試系統以及四套4073先進參數測試系統,從事CMOS製程技術的研究、發展及工業化應用。 由意法
ST在IEDM 2005上揭示超小型NOR快閃記憶 (2005.12.09)
創新半導體供應商ST,2005年12月5~7於美國華盛頓舉辦的國際電子元件會議(International Electron Devices Meeting,IEDM)中,提出了13份技術文件。ST發佈的技術文件包含全球首次披露的65奈米NOR快閃記憶體製程技術,這種元件具有0
Crolles2聯盟邁向新一代量產製程技術 (2005.06.21)
Crolles2聯盟日前公佈了一份在京都舉辦的VLSI會議(VLSI Symposium)文件,描述使用傳統大量CMOS製程技術與45奈米設計規則,在量產條件下建構面積小於0.25平方微米的6電晶體結構SRAM單元
飛思卡爾等Crolles2聯盟成員將強化彼此合作關係 (2005.04.13)
Crolles2聯盟成員意法半導體、皇家飛利浦電子公司與飛思卡爾半導體已達成初步協議,將共同合作創造並認證高階系統晶片(System-on-Chip;SoC)的IP區塊。此協議日後的執行與完成,仍取決於本聯盟成員最終簽署的合約
Crolles2聯盟成員ST、Philips與Freescale (2005.02.17)
三家Crolles2聯盟的成員─飛思卡爾半導體、飛利浦以及意法半導體宣佈,已經在半導體研發領域的合作範圍由原先的小於100nm CMOS製程技術,擴至相關的晶圓測試及封裝領域
ST發佈首個65奈米CMOS設計平台 (2004.12.23)
ST日前宣佈,已開發出65奈米(0.065微米)的CMOS設計平台,能讓設計人員及客戶開發下一代的低功耗、無線、網路、消費性與高速應用等系統單晶片(SoC)產品。此外,ST也宣稱,已完成65奈米SoC的設計與輸出(tape-out),充份展示了ST在此一先進技術上的進展
飛利浦/摩托羅拉/意法合力朝32奈米發展 (2003.03.10)
日前在Crolles2聯盟在法國格勒諾佈爾市附近Crolles研發中心的開幕儀式上,飛利浦(Philips)、摩托羅拉(Motorola)和意法半導體(ST)共同對外表示,未來五年內,該研發中心將集中於12吋晶圓,從90奈米CMOS製程往32奈米製程發展


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