相關物件共 1 筆
|
(您查閱第 頁資料, 超過您的權限, 請免費註冊成為會員後, 才能使用!) |
|
Fractilia將隨機性誤差量測導入晶圓廠 提升EUV管控與良率 (2023.02.22) Fractilia宣布Fractilia Automation Metrology Environment(FAME)產品組合推出最新生力軍:FAME 300。專為量產(HVM)晶圓廠製造環境所設計的FAME 300,可針對先進節點之微影圖案化誤差最大來源隨機效應(stochastics effects),提供即時測量、檢測與監控 |
|
|