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羅門哈斯CMP表面溝槽設計拉動市場需求 (2008.09.15)
羅門哈斯電子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技術事業部（CMP Technologies）宣佈，其新型化學機械研磨墊表面溝槽設計能夠減少缺陷和研磨液的用量，現已迅速得到全球各地市場的認可

羅門哈斯擴建亞太製造廠增加在台投資 (2008.08.01)
羅門哈斯電子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的CMP Technologies事業部，宣佈將擴大其台灣新竹亞太區研磨墊工廠的投資，以加快提高產能，滿足亞洲半導體生產客戶不斷增長的需求

SEMICON Taiwan、IIC Taiwan即將盛大登場 (2008.07.21)
半導體產業年度盛會「SEMICON Taiwan 國際半導體設備材料展」將於9月9-11日在台北世貿一館及三館隆重展開，由來自25國的780家廠商，展出1460個攤位共超過4,000種半導體產業先進解決方案

羅門哈斯亞洲科技中心開幕 (2008.07.10)
羅門哈斯電子材料(Rohm and Haas Electronic Materials)CMP Technologies事業部宣布在台灣新竹的亞洲科技中心(ATC)正式開幕。ATC的成立使CMP Technologies事業部更密切地與以亞洲為基地的客戶進行合作，並協助客戶最有效地使用高階 CMP製程與耗材，同時提供整個亞太地區的工程與技術支援

羅門哈斯獲頒SSMC 2007年最佳供應商獎 (2008.05.22)
半導體產業之化學機械研磨技術廠商，羅門哈斯電子材料公司宣布其CMP Technologies事業處獲頒Systems on Silicon Manufacturing Companys’2007年度最佳供應商.這也是羅門哈斯在4年內年第二次從SSMC獲得

羅門哈斯獲頒2007年SSMC最佳供應商獎 (2008.05.15)
羅門哈斯電子材料宣布其CMP Technologies事業處獲頒Systems on Silicon Manufacturing Company’s（SSMC’s）2007年年度最佳供應商，這也是羅門哈斯在4年內年第二次從SSMC獲得此項殊榮。這個獎項是類似羅門哈斯今年三月所獲得的日立半導體新加坡卓越供應商獎

羅門哈斯槽溝新設計使鎢CMP耗材成本降低20％ (2008.04.28)
羅門哈斯電子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）CMP Technologies事業部推出了一項IC1000 AT和VisionPad CMP拋光墊的革命性槽溝設計。此項新型設計能夠降低高達35％的耗漿量，這相當於將鎢CMP的總耗材成本降低約20％

羅門哈斯併購Gracel Display (2008.04.09)
羅門哈斯(Rohm and Haas)宣佈併購南韓有機發光二極體(OLED)研發及製造廠商Gracel Display。這項約4000萬美元的交易，將讓羅門哈斯取得Gracel過半數的股權。羅門哈斯透過併購Gracel及其OLED材料技術，擴展其顯示器技術事業部門

IBM和羅門哈斯將合作開發先進製程CMP技術 (2008.03.07)
IBM和美國羅門哈斯（Rohm and Haas）兩公司將共同開發用於32～22nm製程的CMP（化學機械研磨）技術。據了解，兩公司主要的合作開發技術，在於32～22nm製程下的Cu/低介電率（low-k）絕緣膜的平坦化所需襯墊（Pad）、漿液（Slurry）及調節器（Conditioner）間的相互控制

羅門哈斯與SKC合資成立專業顯示器技術公司 (2007.12.04)
由羅門哈斯與(Rohm and Haas)與SKC(韓商鮮京化學股份有限公司)所合資創立的SKC Haas Display Films於本週正式成立。總部位於南韓的SKC Haas Display Films，專門開發、製造、銷售各種光學與功能薄膜，提供給平面顯示器產業使用